10月11日，光刻机概念板块早盘大幅冲高。
市场情况：截至发稿，张江高科涨停，国林科技、蓝英装备、富乐德、晶方科技、美埃科技、京华激光等跟涨。
异动相关消息：
1、近日关于俄罗斯光刻机相关研发取得突破消息广泛流传，消息称：“据报道，俄罗斯圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种‘国产光刻复合体’，可用于蚀刻生产无掩模芯片，这将使‘解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题’成为可能。该设备综合体包括用于无掩模纳米光刻和等离子体化学蚀刻的设备。据介绍，其中一种工具的成本为 500 万卢布（约 36.3 万元人民币），另一种工具的成本未知。值得注意的是，截至目前该消息并未获得权威媒体或机构证实。
2、10月8日晚间，苏大维格（维权）公告，收到证监会下发的《立案告知书》，因公司涉嫌信息披露违法违规，证监会决定对公司立案调查。与此同时，苏大维格还回复了交易所的关注函，针对交易所对公司光刻设备的类型、客户、市场占有率等问题进行了回复。公司在这份公告中承认“直接使用了‘光刻机’‘龙头芯片公司’等可能引起误解的表述”，并向投资者表示歉意。
市场观点：
天风证券9月相关研报指出，总的来说，芯片制造的光刻机的原理业内都知道，但关键是工艺的难度与精度非常高，上下游的技术与原材料短板还很多，盲目乐观误导了对产业的正确认知。弯道超车，绕过光刻机的路径，需要不断尝试，不仅仅在中国超分辨率光刻机之外，美国的电子束光刻机，日本的纳米压印设备，都在对传统的光刻机技术发起挑战。但实验室的研究阶段、专利布局与量产是两个不同概念。需要有务实的心态去认识到真正的难题，才能对产业有真正的敬畏，才能有真正的反思与努力的方向，才有望在5—10年内从根源上解决光刻机的难题。任重道远，我们依然保持期待。
